全自動離子濺射儀產(chǎn)品參數(shù):
1.腔體尺寸:石英玻璃,直徑150mm*高度130mm
2.供電規(guī)格:AC220V,200w
3.適用靶材:貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
4.樣品臺可調(diào)高度:20~50mm
5.樣品臺尺寸:直徑55mm
6.工作真空度:1~10Pa
7.氣體路數(shù):單路
8.氣體流量:手動調(diào)節(jié)
9.控制:觸屏控制
10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
11.重量:10KG
12.真空泵:VRD-8
全自動離子濺射儀產(chǎn)品簡介:
1、人性化設(shè)計,儀器操作簡單,一鍵鍍膜。
2、儀器小巧,不占空間,適用于實驗室、科研院所等。
3、鍍膜均勻細(xì)密,適用于多種靶材。
4、樣品臺可以快速調(diào)節(jié),方便取放樣品。
5、儀器性能可靠,設(shè)有多重安全保護(hù)機(jī)制。
全自動離子濺射儀是一種功能強(qiáng)大的電子設(shè)備,經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面,然后通過檢測生成的離子進(jìn)行分析。該設(shè)備通常具有以下特點:
1.條件控制:全自動離子濺射儀可以精確地控制離子束的能量、角度、荷載和強(qiáng)度等條件。
2.多種離子源:它可以裝配多種離子源,包括氧化物、碳化物和金屬等。
3.檢測器:該設(shè)備通常配備專業(yè)檢測器,可以對樣品進(jìn)行自動分析、控制和處理。
4.系統(tǒng)集成:它可以與其他設(shè)備集成,如掃描電鏡和光譜儀,以便進(jìn)行更全面的表面分析。
全自動離子濺射儀的應(yīng)用非常廣泛,包括制備陶瓷、薄膜、半導(dǎo)體和生物醫(yī)學(xué)材料等。此外,它還可以用于表面加工、污染控制和納米加工等領(lǐng)域。