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全自動離子濺射儀IS150

簡要描述:全自動離子濺射儀是一種功能強(qiáng)大的電子設(shè)備,經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面,然后通過檢測生成的離子進(jìn)行分析。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-11-06
  • 訪  問  量:1179
  全自動離子濺射儀產(chǎn)品參數(shù):
 
  1.腔體尺寸:石英玻璃,直徑150mm*高度130mm
 
  2.供電規(guī)格:AC220V,200w
 
  3.適用靶材:貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
 
  4.樣品臺可調(diào)高度:20~50mm
 
  5.樣品臺尺寸:直徑55mm
 
  6.工作真空度:1~10Pa
 
  7.氣體路數(shù):單路
 
  8.氣體流量:手動調(diào)節(jié)
 
  9.控制:觸屏控制
 
  10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
 
  11.重量:10KG
 
  12.真空泵:VRD-8
 
  全自動離子濺射儀產(chǎn)品簡介:
 
  1、人性化設(shè)計,儀器操作簡單,一鍵鍍膜。
 
  2、儀器小巧,不占空間,適用于實驗室、科研院所等。
 
  3、鍍膜均勻細(xì)密,適用于多種靶材。
 
  4、樣品臺可以快速調(diào)節(jié),方便取放樣品。
 
  5、儀器性能可靠,設(shè)有多重安全保護(hù)機(jī)制。
全自動離子濺射儀
 
  全自動離子濺射儀是一種功能強(qiáng)大的電子設(shè)備,經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面,然后通過檢測生成的離子進(jìn)行分析。該設(shè)備通常具有以下特點:
 
  1.條件控制:全自動離子濺射儀可以精確地控制離子束的能量、角度、荷載和強(qiáng)度等條件。
 
  2.多種離子源:它可以裝配多種離子源,包括氧化物、碳化物和金屬等。
 
  3.檢測器:該設(shè)備通常配備專業(yè)檢測器,可以對樣品進(jìn)行自動分析、控制和處理。
 
  4.系統(tǒng)集成:它可以與其他設(shè)備集成,如掃描電鏡和光譜儀,以便進(jìn)行更全面的表面分析。
 
  全自動離子濺射儀的應(yīng)用非常廣泛,包括制備陶瓷、薄膜、半導(dǎo)體和生物醫(yī)學(xué)材料等。此外,它還可以用于表面加工、污染控制和納米加工等領(lǐng)域。

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